專業(yè)從事各種高精密研磨設備、拋光設備及其配套產(chǎn)品和消耗材料的高新企業(yè)
深圳市方達研磨技術有限公司創(chuàng)建于2007年，位于深圳市光明新區(qū)方達工業(yè)園，注冊資金1000萬元，公司廠房面積約13000平米，是國內(nèi)首家從事平面研磨拋光技術的企業(yè)。公司專業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售各種高精密平面研磨設備、平面拋光設備、高速減薄設備，3D拋光設備及其配套耗材。其產(chǎn)品廣泛適用于碳化硅、藍寶石、硅片等晶圓和其他半導體材料，以及機械、電子、陶瓷、光學晶體、航空、汽車、模具等零部件的精密加工。客戶群遍及國內(nèi)外，其代表有華為、中電集團、比亞迪、蘋果、中航、長盈、米亞、通達、中環(huán)半導體，浙江晶盛、通富微電、邁瑞、金瑞泓等眾多知名企業(yè)。
公司經(jīng)過多年的積累與沉淀，打造出一支高素質(zhì)的研發(fā)與管理團隊，公司產(chǎn)品具有很強的技術更新能力和市場競爭力。目前有多項產(chǎn)品填補了國內(nèi)研磨拋光行業(yè)的空白，已達國際先進水平。我司在設備與工藝上已獲28項實用新型專利技術，于2013年被評為國家級高新技術企業(yè)。我們以質(zhì)量為生命，時間為信譽，創(chuàng)新為競爭力的經(jīng)營理念，不斷吸收新創(chuàng)意，嚴把質(zhì)量關，全方位的 跟蹤服務 ，堅持做高品質(zhì)產(chǎn)品，立足于行業(yè)的引導者。
發(fā)展歷程
胡敬祥先生從1999年開始研究平面研磨和拋光技術，生產(chǎn)了380，460等小型單面研磨拋光機。
2001年，公司開始研發(fā)出一些適用范圍更廣的設備，如610,910單面研磨拋光機。
2003年，公司成為國內(nèi)首家研發(fā)出研磨液，拋光液，研磨盤的廠家，液體多達12種，盤5種，適用于各種材料的研磨和拋光。
2007年，成立方達研磨品牌，同時方達第一款帶修面的雙面研磨設備投入生產(chǎn)。
2009年，方達進行了一次研磨技術更新，研發(fā)出了針對硅片的減薄機和拋光機。
2012年，為了適應市場的需求，研發(fā)了LED藍寶石減薄機，硅片減薄機，9104XA銅拋機和9104PA軟拋機。
2014年，為了配套設備，公司研發(fā)出了針對藍寶石專用的研磨盤，拋光墊，研磨液和拋光液。
2016年，針對手機行業(yè)的更新?lián)Q代，方達又設計出了3D陶瓷掃光機，平磨機和拋光機。
2017年，為了配套3D陶瓷掃光機，公司又研發(fā)出了針對該款設備的研磨液和拋光液。
2018年，順應市場需求，我司花費兩個月時間研發(fā)出了FD500D掃光機，用于二手屏的翻新，新屏的打磨拋光。
2019年開始研發(fā)碳化硅半自動減薄機，全自動晶圓減薄機，氣浮主軸，雙頭減薄機等適用于第三代半導體的高端晶圓研磨設備，并于2021年成功問世和批量投產(chǎn)。
