陶瓷拋光機在研磨平面時，一般來說想要獲得高質(zhì)量的平面拋光，所有的工藝規(guī)律都有以下這些點：

1、研磨運動軌跡應(yīng)分布均勻而不重復(fù)，相對來說一般由研磨的行星運動來保證；

2、研磨盤要求材質(zhì)均勻，并有微細孔容納微粉磨料，經(jīng)過修整后可獲得平面度非常高和研磨表面;

3、采用硬度不高的軟質(zhì)或半軟質(zhì)的研磨盤，更容易獲得粗糙度低和變質(zhì)層小的表面。相反使用金剛石超硬的磨料研磨和拋光其效率更高;

4、加工工件對研磨平面要求很高時可以采用浮動研磨盤來消除其誤差;

5、想要提高研磨效率，可以在磨料中加入化學(xué)活性物質(zhì);

6、在研磨工作時應(yīng)該在室內(nèi)環(huán)境清潔狀態(tài)中進行，為避免粗磨料、空氣中灰塵等混入，使研磨表面劃傷從而達不到其高質(zhì)量的要求。

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